Я пытаюсь написать сценарий Gatan DigitalMicrograph для управления наклоном падающего электронного луча до и после образца. Я думаю, что значения системы линз перед образцом можно получить и изменить с помощью таких команд, как EMGetBeamTilt, EMSetBeamTilt и EMChangeBeamTilt. Тем не менее, я не знаю, как получить или контролировать состояние системы объектива после образца, такого как объектив проектора. Какую команду или код следует написать для управления системой линз проектора?
Будет признателен, если вы поделитесь мудростью. Заранее большое спасибо.